Создан заказ №1673502
16 января 2017
Методы производства полупроводниковых кристаллов и пластин
Как заказчик описал требования к работе:
Необходимо написать реферат по электронике, электротехнике, радиотехнике. Обращаюсь к авторам, у которых много работ по этой дисциплина. Прикрепляю пример и оформление доклада. Срок - 3 дня. 12 страниц печатного текста шрифт 14
Фрагмент выполненной работы:
Введение
Вся история электроники — стремление к уменьшению размеров, увеличению быстродействия и массовость производства. Этим тенденциям она будет следовать постоянно.Гордон Мур (Gordon Moore) — один из основателей компании Intel — установил, что плотность логических элементов микросхем удваивается каждые полтора года. На основании этой закономерности в 1965 году, когда плотность составляла 50 компонентов на кристалле, он предрекал, что в 1975 году она составит 65 тыс. (работа была выполнена специалистами Автор 24) компонентов на кристалле, что и произошло. Эта тенденция действует до сих пор, и стала она называться Законом Мура.
Современные полупроводниковые приборы и интегральные микросхемы представляют собой чрезвычайно сложные устройства, отдельные компоненты которых имеют размеры не более доли микрометра. Изготовление таких устройств осуществляется на монокристаллических полупроводниковых пластинах с использованием фотолитографии. Полупроводниковые пластины, предназначенные для формирования изделий микроэлектроники, характеризуются сoвepшенной атомной структурой и высокой геометрической точностью обеспечения этих качеств разработана оригинальная технология механической, химической и химико-механической обработки моно-кристаллических материалов, создано прецизионное оборудование, зачастую не имеющее аналогов в других отраслях народного хозяйства. Обработка полупроводниковых пластин требует высокой квалификации операторов и обслуживающего персонала, неукоснительного соблюдения технологической дисциплины и обязательного поддержания особой чистоты применяемых материалов и вакуумной гигиены в производственных помещениях.
Фотолитографические процессы - важнейшая составная часть технологии изготовления микроэлектронных приборов. Именно они обеспечивают формирование элементов структур с субмикронными размерами и хорошую их воспроизводимость. На современном обо- рудовании достигается разрешающая способность, позволяющая получать несколько тысяч линий на миллиметр. Необходимым условием качественной фотолитографии является наличие бездефектных высокоточных фотошаблоновПосмотреть предложения по расчету стоимости
Заказчик
заплатил
заплатил
200 ₽
Заказчик не использовал рассрочку
Гарантия сервиса
Автор24
Автор24
20 дней
Заказчик воспользовался гарантией для внесения правок на основе комментариев преподавателя
17 января 2017
Заказ завершен, заказчик получил финальный файл с работой
5
Методы производства полупроводниковых кристаллов и пластин.docx
2018-12-21 17:58
Последний отзыв студента о бирже Автор24
Общая оценка
5
Положительно
Рекомендую автора! Работа выполнена качественно и намного раньше срока! Приятно было иметь дело с Вами. Спасибо!
Хочешь такую же работу?
300 ₽
